檢測(cè)報(bào)告圖片
x射線光電子能譜制樣檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線光電子能譜制樣檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。
涉及x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)有56條。
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)中，x射線光電子能譜 制樣涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、無(wú)損檢測(cè)、有色金屬、電子元器件綜合。
在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)中，x射線光電子能譜 制樣涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測(cè)試系統(tǒng)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、光學(xué)測(cè)試儀器、貴金屬及其合金、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求
GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
GB/T 36401-2018表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 36401-2018表面化學(xué)分析X射線光電子能譜薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測(cè)試中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則
GB/T 30704-2014表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測(cè)到的樣品面積的測(cè)定
GB/T 28892-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息
GB/T 28633-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測(cè)定
GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測(cè)量 X射線光電子能譜法
GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告
GB/T 19500-2004X射線光電子能譜分析方法通則
GB/Z 32490-2016表面化學(xué)分析X射線光電子能譜確定本底的程序
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 33502-2017表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)記錄與報(bào)告的規(guī)范要求
德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
DIN ISO 16129-2020表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評(píng)估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
BS ISO 14701-2018表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測(cè)量
BS ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序
BS ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 16243-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
BS ISO 16243-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
BS ISO 14701-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測(cè)量
BS ISO 14701-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測(cè)量
BS ISO 10810-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
BS ISO 10810-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
ISO 15470-2017表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說(shuō)明
ISO 15470-2017表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說(shuō)明
ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對(duì)材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評(píng)估和修正程序
ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求
ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
ISO 16243-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
ISO 14701-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測(cè)量
ISO 10810-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
ISO/TR 19319-2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
GOST R ISO 16243-2016確保測(cè)量一致性的國(guó)家系統(tǒng). 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜 (XPS) 的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
GOST R ISO 16243-2016確保測(cè)量一致性的國(guó)家系統(tǒng). 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜 (XPS) 的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
JIS K0152-2014表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
JIS K0152-2014表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南
法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
NF X21-073-2012表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
NF X21-071-2011表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測(cè)定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息
美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
ASTM E995-2011在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-2010俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-2004俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-1994(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
YS/T 644-2007鉑釕合金薄膜測(cè)試方法 X射線光電子能譜法 測(cè)定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量
韓國(guó)標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
AS ISO 19319-2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對(duì)橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)
AS ISO 18118-2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏系數(shù)使用指南
檢測(cè)報(bào)告有效期
一般x射線光電子能譜制樣檢測(cè)報(bào)告上會(huì)標(biāo)注實(shí)驗(yàn)室收到樣品的時(shí)間、出具報(bào)告的時(shí)間，不會(huì)標(biāo)注有效期。
檢測(cè)費(fèi)用價(jià)格
需要根據(jù)檢測(cè)項(xiàng)目、樣品數(shù)量及檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)而定，請(qǐng)聯(lián)系我們確定后報(bào)價(jià)。
檢測(cè)流程步驟
溫馨提示：以上內(nèi)容為部分列舉，僅供參考使用。更多檢測(cè)問(wèn)題請(qǐng)咨詢(xún)客服。
