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GB/T38532-2020微束分析電子背散射衍射平均晶粒尺寸的測(cè)定

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標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介:本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用電子背散射衍射法(EBSD)對(duì)拋光截面進(jìn)行平均晶粒尺寸的測(cè)定方法,包含與晶體試樣中的位置相關(guān)的取向、取向差和花樣質(zhì)量因子的測(cè)量要求[1]。注1: 使用光學(xué)顯微鏡測(cè)定晶粒尺寸已為大家普遍接受,與其相比,EBSD具有很多技術(shù)優(yōu)勢(shì),如高的空間分辨率和晶粒取向的定量描述等。注2: 該方法還可用于一些復(fù)雜材料(如雙相材料)的晶粒尺寸測(cè)量。注3: 對(duì)變形程度較大的試樣進(jìn)行分析時(shí),需謹(jǐn)慎處理結(jié)果。

標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 38532-2020

標(biāo)準(zhǔn)名稱:微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸的測(cè)定

英文名稱:Microbeam analysis—Electron backscatter diffraction—Measurement of average grain size

標(biāo)準(zhǔn)類型:國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行

發(fā)布日期:2020-03-06

實(shí)施日期:2021-02-01

中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(CCS):化工>>化工綜合>>G04基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(ICS):化工技術(shù)>>分析化學(xué)>>71.040.40化學(xué)分析

起草單位:中國(guó)寶武鋼鐵集團(tuán)中央研究院、上海發(fā)電設(shè)備成套設(shè)計(jì)研究院、中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所

歸口單位:全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 38)

發(fā)布單位:國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局.

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